产品详情
PECVD
分享到:

PECVD

核心技术:
多站式(Multi-Stantion)设计,系统具有优异的膜厚均匀性;
模组化机台设计能够针对客户的需求做设计;
射频功率设计,使反应物能在低温的状态下达到高速率的沉积,进而提高产能;

先进性:
具有多站式(Multi-Stantion)设计,能够实现高重复性,使薄膜沉积的更加均匀;
优化RF功率,使薄膜应力及反射率达到最佳数值
简介 核心技术: 多站式(Multi-Stantion)设计,系统具有优异的膜厚均匀性; 模组化机台设计能够针对客户的需求做设计; 射频功率设计,使反应物能在低温的状态下达到高速率的沉积,进而提高产能;  先进性: 具有多站式(Multi-Stantion)设计,能够实现高重复性,使薄膜沉积的更加均匀; 优化RF功率,使薄膜应力及反射率达到最佳数值
品牌 Honhor
产品详情

核心技术:
多站式(Multi-Stantion)设计,系统具有优异的膜厚均匀性;
模组化机台设计能够针对客户的需求做设计;
射频功率设计,使反应物能在低温的状态下达到高速率的沉积,进而提高产能;

先进性:
具有多站式(Multi-Stantion)设计,能够实现高重复性,使薄膜沉积的更加均匀;
优化RF功率,使薄膜应力及反射率达到最佳数值

联系电话: 0757-88362795
邮箱:wensl@honhor.com
在线客服:13068881155
公司地址:广东省佛山市南海区里水镇和顺花园大道中科万钧电子信息港东区4栋2单元2楼